由自儀院主導(dǎo)制定的國(guó)際電工委員會(huì)（IEC）國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)IEC 63206:2024《工業(yè)過(guò)程控制系統(tǒng) 記錄儀 試驗(yàn)和性能評(píng)定》于2024年12月正式發(fā)布。
IEC 63206:2024標(biāo)準(zhǔn)封面
該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了記錄儀的分類、要求和性能評(píng)估方法，涵蓋了當(dāng)前過(guò)程控制系統(tǒng)中使用的大多數(shù)記錄儀，包括模擬圖形記錄儀、數(shù)字記錄儀、X-Y記錄儀、事件記錄儀等。該標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后，作為工業(yè)領(lǐng)域記錄儀產(chǎn)品的統(tǒng)一技術(shù)規(guī)范，可以滿足制造商、用戶及第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)在貿(mào)易和質(zhì)量控制方面的需求，確保記錄儀在復(fù)雜多變的工業(yè)環(huán)境中能夠準(zhǔn)確、可靠地記錄關(guān)鍵過(guò)程數(shù)據(jù)，為生產(chǎn)安全、質(zhì)量控制、故障分析及能效管理等提供堅(jiān)實(shí)的數(shù)據(jù)支撐。
項(xiàng)目背景
IEC曾發(fā)布了兩項(xiàng)圖紙記錄儀相關(guān)的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)IEC 60873-1:2003和IEC 60873-2:2004《工業(yè)過(guò)程控制系統(tǒng)用電動(dòng)和氣動(dòng)模擬圖紙記錄儀》，該標(biāo)準(zhǔn)是針對(duì)傳統(tǒng)圖紙記錄儀的標(biāo)準(zhǔn)，近年來(lái)這種儀表正逐步被控制系統(tǒng)的顯示屏，以及數(shù)字化、無(wú)紙化的新型產(chǎn)品取代。隨著技術(shù)的發(fā)展，現(xiàn)今圖形記錄儀作為獨(dú)立產(chǎn)品越來(lái)越少，更多的是作為控制系統(tǒng)裝置的功能模塊，而獨(dú)立記錄儀則越來(lái)越多的表現(xiàn)為巡回檢測(cè)儀、事件記錄儀或報(bào)警裝置。國(guó)內(nèi)外記錄儀相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)已無(wú)法適應(yīng)產(chǎn)品技術(shù)發(fā)展的需要。2017年，自儀院向IEC / TC65 / SC65B (工業(yè)過(guò)程測(cè)量和控制/測(cè)量和控制裝置)提出了制定新國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的立項(xiàng)建議，并于2018年6月成功立項(xiàng)為IEC 63206。該標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后，將覆蓋IEC 60873，并將現(xiàn)今過(guò)程控制系統(tǒng)中使用的主要類型記錄儀都涵蓋其中。
掛靠在自儀院的SAC / TC124 / SC1 標(biāo)委會(huì)秘書(shū)處(全國(guó)工業(yè)過(guò)程測(cè)量控制和自動(dòng)化標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)第一分技術(shù)委員會(huì))，是溫度、流量、機(jī)械量、物位、顯示儀表、執(zhí)行器和結(jié)構(gòu)裝置領(lǐng)域國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的歸口單位，也是國(guó)際組織IEC / TC65 / SC65B 的國(guó)內(nèi)技術(shù)對(duì)口單位。在標(biāo)準(zhǔn)制定過(guò)程中，自儀院充分發(fā)揮標(biāo)委會(huì)在標(biāo)準(zhǔn)化方面的專業(yè)優(yōu)勢(shì)，以及在工業(yè)過(guò)程控制領(lǐng)域的專家力量，積極與國(guó)際同行交流合作，廣泛征求各方意見(jiàn)，確保了標(biāo)準(zhǔn)的科學(xué)性、實(shí)用性和準(zhǔn)確性。經(jīng)過(guò)多輪討論、修改，IEC 63206最終獲得了IEC正式批準(zhǔn)，成為了國(guó)際通用的工業(yè)過(guò)程控制系統(tǒng)記錄儀技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。
標(biāo)準(zhǔn)是“世界話語(yǔ)權(quán)”，標(biāo)準(zhǔn)是經(jīng)濟(jì)活動(dòng)和社會(huì)發(fā)展的技術(shù)支撐。未來(lái)，自儀院將繼續(xù)加強(qiáng)與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化領(lǐng)域合作，促進(jìn)工業(yè)過(guò)程控制領(lǐng)域高質(zhì)量發(fā)展，在構(gòu)建新發(fā)展格局中發(fā)揮更大作用。
